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半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例

该项目背景图案 该机构专业分娩半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,废污水氟质量浓度不高且组成成分比较复杂。原先的治理 技艺成果不平衡,氟化物污染物总时超预算。项目建筑项目项目建筑2300万元建筑正规治理 油烟净化器,设定治理 实力500吨/天。 废气组成成分及源 焦化废水首要出自于产出主设备洗掉和废水洗滌: 氟铁离子密度:1500-3500mg/L 含磷酸根阴离子:2000-5000mg/L pH值:1- 含进样器钨、钼等五金营养元素 处置工艺标准流程标准流程 面向高浓硫酸浓度特质,采取"采和+多级别沉淀物中+膜正确处理"加工: 焦化污水汇集池:归类汇集其他浓硫酸浓度焦化污水 中合症状池:分环节添加氢被阳极氧化钠和氢被阳极氧化钙,设定结果英文pH至7.5-8. 斜管沉垫池现象池:加药PAC和PAM明显增强沉垫感觉 斜管悠长岁月中池:高效性固液剥离 多材质活性炭过滤系统:除去狗细小粒子 ro反渗透法整体:深层脱盐和除氟 工业废水干化浓缩造成缺水系统化:离心式缺水后工业废水干化建筑垃圾清运专业技术处治 在线免费监测方案系统:实时的监视器氟铝离子浓硫酸浓度和pH值 从而功效 加工处理系统软件行驶数据分析: 进水量氟铁离子分別溶液浓度:2800mg/L 出水量氟阴离子溶度:3.2mg/L(平衡) 氟弄掉率:99.9%这些 水使用率:起到65% 软件系统自动控制度高,保持废液工作总成本削减30%,年二手回收氟化钙副成品约400吨。

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