广州某半导体技术心片生产激光加工厂，晶圆激光加工全过程中呈现含硅、氟的特有污废气 ，的设计补救市场规模1200吨/日。污废气 部分多样化，所含nm级硅科粒及氢佛酸，以往补救策略难易达到标准。 工业废水组成成分及因素 主要的环境破坏物 ：氢氧化铁硅（100-500nm颗粒直径）、氟阴离子（200-300mg/L）、异丙醇 由来步骤 ：晶圆刻蚀生产废气（45%）、CMP化学上机器抛光处理生产废气（40%）、机 清洗水（15%） 处理生产技术环节 水平创新采取"无机化学乳浊液+持种膜拆分"水平路经： 钙盐奠定 ：污泥脱水氯化钙的还原氟阴阳离子（导出CaF2沉积） 水解酸化池反应迟钝 ：复合型水解酸化池剂保持氢氧化铁硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm粒径膜公款私存微细颗料 反渗入软件系统 ：脱盐率>98%，出售率75% 挥发心得 ：浓水段确保氟化物污水处理技术物 从而感觉 氟化物浓硫酸浓度：<8mg/L（降至國家3级要求10mg/L） 硅占比：<5mg/L 水的资源循环率：70%应用在降温塔补水保湿 危险废弃物减小：汽化沉渣量较民俗的工艺减小60%